ক্রোম-ধাতুপট্টাবৃত পিস্টন রডের সামগ্রিক পারফরম্যান্স আরও উন্নত করার জন্য, এটি কেবল যন্ত্রের মানের ব্যবস্থাপনা স্তরকে শক্তিশালী করার জন্য নয়, তবে ক্রোম প্লাইটিং প্রক্রিয়া উন্নত করতেও প্রয়োজনীয়। উদাহরণস্বরূপ, আমরা একটি নতুন কম্পোজিট ক্রোম প্রক্রিয়া ব্যবহার করতে পারি, যা পিস্টন রডের একটি ডবল ক্রোম কলাই। সাধারণত, একটি কম কঠোরতা (HV750 সম্পর্কে) কিন্তু প্লাস্টিকের অ- porous ক্রোম বেস ধাতু প্রথম 0.02 থেকে 0.03 মিমি পুরু, প্রয়োগ করা হয়।
হার্ড ক্রোমের একটি স্তর (HV1050 এর চেয়ে বড়) তারপর ক্রোম-ধাতুপট্টাবৃত পিস্টন রাড স্তরটি প্রায় 0.10 থেকে 0.15 মিমি পর্যন্ত বিস্তৃত। বহিরাগত হার্ড ক্রোম, যদিও এখনও পুকুর বা মাইক্রোস্কোপিক ফাটল থাকার সম্ভাবনা রয়েছে, অন্তর্নিহিত ক্রোম এবং বেস ধাতু প্রবেশ করতে পারে না এবং এটি কঠিন এবং প্রতিরোধী পরিধান যৌগিক আবরণ কঠোরতা মসৃণ হয়, এবং ক্রিস্টালাইজেশন প্রচলিত পদ্ধতি দ্বারা ধাতুপট্টাবৃত হার্ড ক্রোম স্তর তুলনায় চিত্তাকর্ষক, যাতে পিস্টন ছড় উভয় জারণ-প্রতিরোধী এবং পরিধান-প্রতিরোধী হতে পারে
ক্রোম ধাতুপট্টাবৃত পিস্টন রড কম্পোজিট ক্রোম ধাতুপট্টাবৃত স্পেসিফিকেশন প্রয়োজনীয়তা নিম্নরূপ হয়: প্রথমত, অন্তর্নিহিত ক্রোমিয়াম প্রসারণের সময়, তাপমাত্রা 65 এবং 70 ডিগ্রি সেন্টিগ্রেডের মধ্যে নিয়ন্ত্রিত হওয়া উচিত, বর্তমান ঘনত্ব ২5-30 ডি / ২ ২; বাইরের স্তর হার্ড ক্রোম হয়, তাপমাত্রা রাখা উচিত বর্তমান ঘনত্ব 45-55 A / dm2 50 থেকে 55 ডিগ্রি সেলসিয়াসে। উপরন্তু, আবরণ একটি ইউনিট বেধ নিশ্চিত করার জন্য, একটি contoured বিদ্যুদ্বাহক ব্যবহার করা উচিত। HTTP: //www.xhychromerod.com/